抛光机也称为砂研机、砂磨机是一种物理加工方式d，常常用作机械式研磨、抛光。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的砂带或千叶轮抛光轮高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除表面污染、氧化层、浅痕的目的。
抛光机操作的关键是要设法得到大的抛光速率，以便尽快除去磨砂时产生的粗磨层。同时也要使抛光粗磨层不会影响深层的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的粗磨层，但抛光粗磨层也较深；后者要求使用细的材料，使抛光粗磨层较浅，但抛光速率低。
解决这个矛盾的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光粗磨层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层粗磨是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛，其目的是去除粗抛产生的表层粗磨，使抛光粗磨减到小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加抛光蜡，使抛光织物保持一定湿润度。湿润度太大会减弱抛光的切削力作用，使样品浮现凸点非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使样品升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，不要超过600r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。
精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的粗磨层为宜。精抛后磨面镜面，特别国内外在抛光机的性能上作了大量的研究创新工作，设计不少新功能的抛光设备，藉由这些新设备可以达到以上过粗/精抛光功能，也提升质量与效率.
